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晶圆制造温度控制

晶圆生产商的担心

       随着半导体集成电路制造工艺的发展,特征尺寸不断缩小,使芯片的集成度越来越高,对集成电路制造及工艺设备提出了更高的要求,最新的工艺发展越来越受到工艺设备的制约。以立式炉设备来讲,为了保证上述工艺、材料性能的实现,热处理工艺对立式炉设备的指标,如颗粒控制、氧含量控制、升降温速率、稳定性等,提出了更高的要求。

真尚有方案介绍

        真尚有科技基于砷化镓的光纤温度测量设备,可以为晶圆制造过程中的过程监控提供非常理想的条件,它们的测量范围从-200°C到+300°C,并且具有0.2℃的高精度。

       我们的设备能够满足生产室内对纯度和安全性的严格要求。真尚有科技的光纤探头完全不受RF和EMI的干扰,可确保在硅晶片上进行精确测量,而对维护的要求非常低。

       真尚有科技可以为安装测量系统提供完全定制的解决方案。我们的技术旨在提供灵活性,以确保我们满足您的配置要求。光纤温度传感器可以扩展到数百米,而不会影响精度。

更懂您的行业顾问

       真尚有科技提供各种温度检测方案,我们不仅仅提供技术方面的支持,基于我们在行业内超过15年的积累,协助客户一起把原始需求迭代为完整方案,最终服务您的方案蓝图反而是我们更注重的地方。我们始终相信成交靠缘分,不管您是否从我们这里采购,我们都非常乐意为您服务。


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